Genius恒温金属浴有两种机型: 单槽或双槽设计，可随意从广泛的铝块类型中选择搭配使用。它适合于多种应用，包括限制性内切酶反应，DNA变性，尿素氮测定，凝胶熔化，凝血试验，杂交和热启动热循环反应。微处理器控制器提供方便的温度选择，快速加热和极佳的稳定性。此产品温度设定的增量温度范围为0.1℃，温度控制范围适用于从室温+5℃到150℃。另有选配的温度传感器可直接放置在样品中提供精准的温度侦测和控制。定时器可设置1-999分钟或持续运行。 Genius恒温金属浴系列也可以用作小型水浴槽使用。可选配功能控制软件进行PC数据记录
Genius恒温金属浴MD-01N / MD-02N产品特点：
Genius恒温金属浴MD-01N / MD-02N产品特点：
•微处理器控制的数字性能精确
•广泛的温度控制范围和精准的温控性能
•优异的加热速度
•LED显示和定时器
•用户温度校正功能
•可以用作水浴槽
•槽体内壁附有特氟龙涂层
•一体成型铝合金内槽
•可另外选配功能控制软件
规格参数
选择配件
规格参数
选择配件
